溅射靶材（关于溅射靶材的基本详情介绍）
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2023-09-08 16:21:02
摘要 大家好我是小蝌蚪，溅射靶材，关于溅射靶材的基本详情介绍很多人还不知道，那么现在让我们一起来看看吧！1、磁控溅射是物理气相沉积（Physi...
音频解说
大家好我是小蝌蚪，溅射靶材，关于溅射靶材的基本详情介绍很多人还不知道，那么现在让我们一起来看看吧！
1、磁控溅射是物理气相沉积（Physical Vapor Deposition，PVD）的一种。
2、一般的溅射法可被用于制备金属、半导体、绝缘体等多材料，且具有设备简单、易于控制、镀膜面积大和附着力强等优点。
3、上世纪 70 年代发展起来的磁控溅射法更是实现了高速、低温、低损伤。
4、因为是在低气压下进行高速溅射，必须有效地提高气体的离化率。
5、磁控溅射通过在靶阴极表面引入磁场，利用磁场对带电粒子的约束来提高等离子体密度以增加溅射率。
本文关于溅射靶材的基本详情介绍就讲解完毕，希望对大家有所帮助。
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