您的位置:首页 >综合要闻 >正文

溅射靶材(关于溅射靶材的基本详情介绍)

摘要 大家好我是小蝌蚪,溅射靶材,关于溅射靶材的基本详情介绍很多人还不知道,那么现在让我们一起来看看吧!1、磁控溅射是物理气相沉积(Physi...

音频解说

大家好我是小蝌蚪,溅射靶材,关于溅射靶材的基本详情介绍很多人还不知道,那么现在让我们一起来看看吧!

1、磁控溅射是物理气相沉积(Physical Vapor Deposition,PVD)的一种。

2、一般的溅射法可被用于制备金属、半导体、绝缘体等多材料,且具有设备简单、易于控制、镀膜面积大和附着力强等优点。

3、上世纪 70 年代发展起来的磁控溅射法更是实现了高速、低温、低损伤。

4、因为是在低气压下进行高速溅射,必须有效地提高气体的离化率。

5、磁控溅射通过在靶阴极表面引入磁场,利用磁场对带电粒子的约束来提高等离子体密度以增加溅射率。

本文关于溅射靶材的基本详情介绍就讲解完毕,希望对大家有所帮助。

版权声明:本文由用户上传,如有侵权请联系删除!